GB 51432-2020 薄膜晶体管显示器件玻璃基板生产工厂设计标准

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GB 51432-2020.Standard for design of thin film transistor display device glass substrates manufacture plant.

1总则

1.0.1 为在薄膜 晶体管显示器件玻璃基板工厂设计中贯彻执行;国家有关法规和方针政策,规范薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计,做到技术先进,经济合理，节约能源,保护环境,安全运行，制定本标准。

1.0.2 GB 51432适用于以溢流下拉法、浮法、槽口下拉法玻璃生产工艺为主的新建、改建和扩建的薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计。

1.0.3 薄膜晶体管显示器件玻璃基板工厂设计,除执行本标准外，尚应符合国家现行有关标准的规定。

2术语

2.0.1 薄膜晶体管 thin film transistor

指通过溅射、沉积、分子自组装、真空蒸镀、喷墨打印等成膜技术在玻璃等载体表面制作的晶体管,通常用作开关原件或驱动电路。

2.0.2 薄膜晶体管 显示器件 thin film transistor display device

使用薄膜晶体管控制像素开关或驱动，实现有源矩阵式显示方式的显示器件。

2.0.3 玻璃基板 glass substrate

表面平整的薄玻璃片,是构成薄膜晶体管显示器件的基本部件。

2.0.4 窑龄 furnace life

熔炉两次冷修之间的连续生产时间,通常以年或月表示。

2.0.5 世代 generations

用于定义玻璃基板产品的尺寸规格;世代越高,玻璃基板尺寸越大。

2.0.6 配料 工序 batch

将用于玻璃基板生产的粉料原材料进行接收、车间内输送、储存、定量称量.粉料原材料混合,再将混合后的配合料与碎玻璃配比后输送到熔炉的工艺过程。

(GB 51432-2020 薄膜晶体管显示器件玻璃基板生产工厂设计标准标准内容仅部分展示)

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